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HUBIS 素肌美を底上げ!
HUBIS クリニック発想の韓国プロフェッショナルブランド
HUBIS ヒュービス
HUBIS 素肌美を底上げ!
HUBIS クリニック発想の韓国プロフェッショナルブランド
HUBIS ヒュービス

こだわり成分で施術効果を底上げ!
韓国生まれのクリニック発想コスメが
日本初上陸

肌本来のコンディションをぐっと引き上げる、
次世代の韓国スキンケアブランド『HUBIS LAB(ヒュービスラボ)』。
効果が出やすい素肌づくりに着目し、肌に必要な成分を厳選。

刺激を受けた肌を労わり、施術効果をより実感しやすい
ワンランク上の健やかな素肌へと導きます。

施術の
アフターケア

アフターケア

ピーリンクなどの
施術の後のお肌をサポート

プラットフォーム
テクノロジー
採用

プラットフォームテクノロジー

うるおいを素早く届ける
プラットフォームテクノロジーを採用

8つの
フリー処方

8つのフリー処方

肌へのやさしさにこだわり
成分を厳選したナチュラル処方

CONCEPT

配合成分にこだわり施術効果も底上げ
結果にまっすぐなワンランク上の
韓国プロフェッショナルブランド

攻めた成分でアプローチするのではなく、
素肌美を底上げすることで、有用成分が届きやすい
肌へ導く、韓国スキンケアの新常識。

美容大国韓国で、施術のアフターケア用アイテムとして
誕生したHUBIS LAB。
ピーリングや脱毛などの刺激を受けた肌に着目し、
ゆらいだお肌のコンディションを整え、より施術結果が出やすい
肌づくりを目的として開発されたプロフェッショナルブランドです。

FEATURE

ヒューマンバイオサイエンスに
基づいたクリニック発想のアプローチ

お肌に素早くうるおいを届ける※1プラットフォームテクノロジーを採用。
ピーリングなどの施術の後のゆらぎがちなお肌も、
本来のすこやかな状態に導きます。
施術のアフターケアとしてはもちろん、日々のスキンケアとして使い続ける
ことで素肌美を底上げし肌本来の調子を引き出します。
※1:角質層まで

8つのフリー処方

  • 5つのパラベン※2
  • ベンゾフェノン
  • DMDMヒダントイン
  • チモール
  • フェノキシエタノール
  • t-ブチルメトキシ ジベンゾイルメタン
  • ベンジルアルコール
  • イミダゾリジニルウレア
※2 イソプロピルパラベン、イソブチルパラベン、フェニルパラベン、ベンジルパラベン、ペンチルパラベン

パラベンやアルコールフリー処方で肌の負担は最小限に。
成分のやさしさにこだわり、必要な成分だけを厳選しています。

ヒュービスラボ 肌の負担は最小限に

LINE UP

洗浄、保湿ケア、集中ケアと3ラインで
メニューに取り入れやすいラインアップ展開。

ピックアップ成分

ヒアルロン酸

ヒアルロン酸

保水力保湿力の高いヒアルロン酸Na

CICA

CICA

ゆらいだ肌にアプローチするツボクサエキス

ナイアシンアミド

ナイアシンアミド

くすみ※3をケアし、明るい印象に

アラントイン

アラントイン

ゆらいだ肌にアプローチし健やかな状態に

ヒュービスラボ ピュアバランスライン
洗浄

PURE BALANCE LINEピュアバランスライン

お肌を清潔にし、スキンケア効果がお肌に行き渡るための
HUBIS LABのスキンケアの土台を整える「洗浄」ライン。

ヒュービスラボ リフレッシング クレンジングミルク
ピュアバランス
リフレッシング クレンジングミルク
200ml / 1000ml

滑らかなテクスチャーで潤いを守りながらメイクや毛穴汚れを落とすミルクタイプのクレンジング。

ヒュービスラボ PE ピーリング ウォッシュ
ピュアバランス
PE ピーリング ウォッシュ
70g

パパイン酵素※4配合ですっきりと洗い上げるパウダータイプの洗顔料。施術ではディープクレンジング効果のある泡パックもできます。

保湿ケア

POST RAYS LINEポストレイズライン

施術の後にも使える優しさと肌本来の保護環境のサポートと
保湿を兼ね備えたシリーズ。

ヒュービスラボ ポストレイズライン
ヒュービスラボ ポストレイズ カモミール ジェル
ポストレイズ
カモミール ジェル
500ml

カモミールエキス※5、ローズエキス※6、スベリヒユエキスなどを配合した伸びの良いジェルパック。

ヒュービスラボ ポストレイズ ダーマ RG K ソリューション
ポストレイズ
ダーマ RG K ソリューション
120ml / 1000ml

施術後などの不安定なお肌に潤いを与えいたわる高保湿化粧水。

ヒュービスラボ ポストレイズ ダーマ RG モイスチャライザー
ポストレイズ
ダーマ RG モイスチャライザー
200ml / 1000ml

CICA※7、配合で施術後などの不安定なお肌に潤いを与えいたわる高保湿乳液。

ヒュービスラボ ポストレイズ ダーマ RG Kクリーム
ポストレイズ
ダーマ RG Kクリーム
40ml / 500ml

CICA※7、ナイアシンアミドなど配合で施術後などのゆらぎがちなお肌に潤いを与えいたわる高保湿クリーム。

ヒュービスラボ ポストレイズ ダーマ RG Cクリーム
ポストレイズ
ダーマ RG Cクリーム
40ml / 500ml

ハイドロマトリックス※8、CICA※7配合で施術後のお肌にも深く※9うるおいを与える高保湿クリーム。

ヒュービスラボ コンプレックスライン
集中ケア

COMPLEXコンプレックスライン

悩み別にアプローチする機器対応(イオン導入・エレクトロポレーション)美容液ライン。Cコンプレックス※10、ヒアルロン酸Na、カモミール※11の3種の濃密美容液で悩みに合わせたケアを提案します。

ヒュービスラボ ダーママックス Cコンプレックス
ダーママックス
C コンプレックス
50ml

Cコンプレックス※10配合で、お肌のくすみ※3をケアしながら、保湿し明るい印象のお肌へ整える集中ケア美容液。

ヒュービスラボ モイスチャー コンセントレート
モイスチャー コンセントレート
HyL コンプレックス
50ml

粉がふくほど乾燥したお肌にもうるおいを届けるヒアルロン酸Na配合の集中美容液。

ヒュービスラボ カモミール コンプレックス
ポストレイズ
カモミール コンプレックス
50ml

施術後のお肌をいたわりうるおいを与えるカミツレ水ベースの集中ケア美容液。

※3:乾燥による、※4:パパイン、※5:カミツレ花エキス、※6:センチフォリアバラ花水、※7:ツボクサエキス、※8:3種のヒアルロン酸:ヒアルロン酸Na、ヒアルロン酸クロスポリマーNa、ヒアルロン酸、※9:角質層まで、 ※10:ビタミンC(3-O-エチルアスコルビン酸)、アラントイン、グリチルリチン酸2K、※11:カミツレ水

SEMINAR

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